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【全流程除臭设备,除臭培养罐,离子新风设备】低温等离子与UV光解光催化除臭技术的区别

时间:2022-03-24 14:10:39 作者:全流程除臭设备 来源:www.brzhb.com 点击:256 次

【全流程除臭设备,除臭培养罐,离子新风设备】低温等离子与UV光解光催化除臭技术的区别


UV光消除臭也叫催化氧化除味,其基本原理主要是紫外线映照二氧化钛,产生氧自由基将异味分子分化,纳米锐钛型二氧化钛(TiO2),做为一种新的催化氧化半导体器件,日本已经将其列入21世纪关键点进行的新技术应用,被称作现如今世界最专业的工业有机废气处理技术性,近些年在中国也获得较广泛运用。特性是应用特别制作的高能高臭氧UV紫外线光线映照恶臭味气体,修改恶臭味气体,如氨、三甲胺、氯化氢、甲硫氢、二甲基二硫、四乙酰氯、二甲二硫、二硫化碳和丁二烯、硫酸盐H2S、VOC类、苯、二甲苯、二甲苯的分子链构造,使有机化学或有机物高分子恶臭味化学物质分子链,在高能紫外线下,溶解转化成低分子化学物质,如CO2、H2O等。再分化空气中的氧分子产生分散氧,即臭氧。因分散氧所携正负电子不平衡因此需与氧分子融合,进而产生臭氧。大家都知道,臭氧对有机化合物具备较强的化学作用,对恶臭味气体以及它感激性臭味有马到功成的清除功效。有机化学恶嗅气体通过UV光氧催化废气净化设备后,除臭设备应用高能UV紫外线光线及臭氧对恶臭味气体开展协作分化氧化还原反应,使恶臭味气体化学物质溶解转换成低分子化学物质、水和二氧化碳,裂化恶臭味气体中病菌的分子键,毁坏病菌的Dna(DNA),再通过臭氧氧化还原反应。


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